第386章 超级快充!浸润式光刻模组(2 / 2)

饥饿的考拉 / 著

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“不错不错。”

陈腾笑得非常开心。

将系统给的u盘插入电脑当中,陈腾越看越开心。

技术详解真不愧是技术详解,讲的就是详细。

“不过这个技术,能算是突破性成就吗?”

陈腾觉得不算。

这项技术强归强,但是本质上还是锦上添花。

无非是一朵很大很大的花罢了。

“要不要再抽一下?”

陈腾有些犹豫。

一项超级快充技术,足够下一代的腾达手机大卖了。

“再抽!”

陈腾决定,只要抽出一项能给手机带来突破性成就的奖励他就收手。

【浸润式光刻模组技术详解】

“我擦?”

陈腾的呼吸变得急促与沉重起来。

居然是这个?

在让人研究光刻机之后,陈腾本人对光刻机也有一定程度的了解。

duv浸润式光刻机,大致可以分成六个模组。

掩膜版传送模组、晶圆传送模组、照明模组、投影物镜模组、浸润式光刻模组、双晶圆平台模组。

这六个模组当中,难度最大的就是浸润式光刻模组。

这个模组,也是浸润式光刻机名字的由来。

聊到浸润式光刻模组,那就不得不聊一下投影物镜模组与光刻机的原理。

简单概括一下,光刻机的原理就是利用紫外光,在晶圆上进行雕刻。

投影物镜的作用,就是将照明模组发射出的紫外光收进物镜内,并聚焦成像在晶圆上。

一般来说,由瑞利公式可以得出结论。

投影物镜是越粗,最后制造出来的芯片性能就会更高。

但是投影物镜要是太粗,又会发生全反射现象,紫外光就无法在晶圆上聚焦了。

换而言之,物镜不够粗,芯片性能就不行。

物镜太粗,直接造不出来了。

这个时候,有人提出了一个天才般的想法。

在晶圆上滴一滴水。

水折射率更高,更不容易发生全反射现象。

这样一来物镜就能做的更粗,造出的芯片就更强。

这也就是浸润式光刻机这个名字的由来。

将晶圆用水浸润了嘛。

但这又面临了一个巨大的问题。

晶圆成像时温度会升高,需要流动的水来进行降温。

但在成像过程中,又要求这流动的水能像光学镜头一样光滑,不能有扰动。

出现扰动会怎么样?

晶圆会报废。

所以这“水”,其实不是一般的水。

这个难题,一直都有困扰着腾达研发中心甚至是全世界相关领域的专家。

腾达研发中心虽有进度,但是进度很慢。

当初黎星若向陈腾提出光刻机制造过程中的难点时,也有提到这个问题衍生出来的子问题。

可是现在,系统把这整个模组的技术详解都给了陈腾。

陈腾将原来超级快充技术详解的u盘拔出,把浸润式光刻模组技术详解的u盘插入。

打开里面的内容一看。

很好,陈腾基本上全都看不懂。

不过陈腾却忍不住笑出了声来。

这次啊,真的是赚大了!

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