第141章 光刻机难么?一点都不难!(2 / 2)

三思两行 / 著

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连那些想提出质疑的人,看完设计图后,都不由冒出了‘就该这么设计’的想法,实在挑不出什么毛病。

“就按叶总的设计方案,把新的光刻机组装出来!”

贺光拍板道。

很快。

上千人连续加班加点了五天。

新款的改进型duv光刻机,成功组装了出来。

在实验室内试用了一番。

光刻清晰度有了极大提高。

稳定性至少提高了十倍。

连光刻功率、速度和效率,都有了五成以上的提高。

较之前的那款duv光刻机,简直有了脱胎换骨的进化。

甚至连制造成本,都降低了大约15,且更容易批量化生产。

再然后,这台改进版的光刻原型机,被送到了龙兴芯片公司的工厂,用于小芯粒的套刻生产,并很快传来了振奋人心的消息!

新款的duv光刻机特别好用,小芯粒的良率,提高到了985,完全达标!

连续工作24小时后,没有出现任何故障。

且光刻精度高、速度快,能满足小芯粒大批量生产的需求。

所以那台duv光刻原型机,不必再返厂改进了,直接放在代工厂使用吧。另外务必要增加该型光刻机的产能,至少要生产出五十台、一百台、数百台,才能满足龙国整个芯片市场的需要,彻底解决芯片荒的问题。

得到这些反馈。

东海微电子公司内,顿时沸腾一片,欢呼震天!

“我服了,我服了!叶神就是叶神,只要他一出马,再难的问题都能解决!”

“光刻机对我们可能很难,但对叶神而言,半点难度都没有!”

“我这人一直自视甚高,自认有几分本事,今天才算是打开了井盖,看到天外有天,我经常为解决了几个技术难点而沾沾自喜,但跟叶神一比,我连渣都不是!而我之前还在心里吐槽叶神,可笑至极!”

“我也服了,这就是人跟神的差距,我认为更先进的euv光刻机,叶神也能轻松搞定,最多也只要半个月时间!”

“euv还是我们自己来吧,叶神说了,他设计的光刻机内部构造,稳定性高,还有很大的拓展性,而euv最大的难点,是光源比较难搞定,其它跟duv没有太大差别的,而我们国内的某研发机构,不是利用特殊晶体激发激光的方式,把深紫外光源搞定了么?也就是说,euv光刻机,也能很快造出来了?”

“既然这样,叶神不需要再跑第二趟了,我们该支棱起来了!”

“话说叶神人呢?怎么没看到他,我想跟他握握手,再抱抱他的大腿,他以后就是我信仰的神明了。”

“叶神他已经回去了,怎么可能一直待在这里?对他这样的人而言,解决光刻机问题,就是随手解决个小boss罢了,他还有更多的事要处理。”

“哎,叶神怎么就走了呢?我都没要到他的签名,还没有给他道歉认错,没有跟他一起举杯喝庆功酒,他为什么不能再多待一天呢?”

“这就是‘事了拂衣去,深藏功与名’啊,叶神的境界,我等是永远都达不到的啊。”

“行了别闲聊了,继续干活吧,咱们国家的芯片荒越来越严重,没时间浪费了,马上组装更多的‘叶神改进版’光刻机出来吧。”

“是!干活干活。”

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