组装完成后,赵学成让大家稍事歇息。然后他来到光刻机前,准备给大家简单介绍一下芯片的制作流程。
“各位,有了这台光刻机,我们就可以生产像芯片这样集成电路芯片了。”赵学成拍了拍光刻机,笑着说。
“芯片其实也是一个集成电路,只不过更加精密小型。”
“制作芯片需要先在一块硅晶片上蒸镀光敏材料,就像涂抹一层光敏胶水。”
“然后通过光刻机的精准曝光,在光敏材料上生成电路图案。”
“最后再通过一系列复杂工艺,就可以形成硅芯片了。”
赵学成一边简单解释,大家一边听得津津有味。
“原来芯片是这样制作的,太精妙了!”
“对对对,光刻机的作用就是在硅片上照射出精细电路图案,然后其他工艺再继续就能成芯片!”
“我终于明白芯片为什么那么小了,因为都是通过光刻生成的微细电路!”
大家纷纷感叹不已,对芯片制作工艺有了更深的理解。
“所以大家以后要充分利用这台光刻机,钻研精密芯片的制作工艺。”赵学成鼓励道。
“遵命所长!我们一定会努力研究,争取早日实现芯片批产!”众人重重点头,兴奋异常。
赵学成早已准备好了制作光刻机所需的各种材料。
他先从最关键的掩膜开始着手。
掩膜是光刻过程中需要的用来遮挡光线的图案,对划分电路结构至关重要。
制作一个好的掩膜需要精密的工艺,这也是光刻机研制的难点之一。
为了制作出高品质的掩膜,赵学成分别与几个科研院所取得了联系。
他们在掩膜制作方面积累了宝贵的经验。
经过多次反复实验改进,终于为光刻机研制成功制造出可用的掩膜。
在科学院那边,光刻机的研制进展他们也一直在密切关注。
得知赵学成需要制作掩膜,他们立刻组织力量全力支持。
科学院集结了多个部门的专家学者,不断针对掩膜的材料配方、制作工艺以及质量控制等方面提供建议,最终帮助赵学成成功突破了这项核心技术。
掩膜准备妥当之后,赵学成开始进行光刻图案的制作。
这需要仔细操作光刻机,精心控制图案曝光的每个细节。
“各位,我现在要开始光刻第一颗试验芯片了。”赵学成郑重其事地说。
他小心翼翼地将准备好的硅片放入光刻机,然后启动设备,一丝不苟地调试着参数。
这第一批光刻的芯片,是赵学成亲自设计的一款机床用处理器芯片。
它采用较前沿的一微米工艺制成,在当时可以说是非常先进的成果。
虽说与前世动辄几纳米制程的芯片相比,这一微米芯片的性能还有巨大的差距,但对于这个时代来说,能达到这样的工艺水平已属非常不错的成就。
在密切关注的科学院专家们看来,这一微米芯片的诞生,标志着我国集成电路制造进入国际先进行列,为后续发展奠定了坚实基础。
“稳定调整左侧好,开始曝光!”赵学成一丝不苟地操作着。
在接下来的几个小时里,他耐心地完成着图案曝光的工作,神情专注,丝毫不敢有丝毫马虎。
众人围在操作台前,紧张地等待着芯片的诞生。
赵学成专注地操控着光刻机,一丝不苟地完成着曝光工作。
“好,现在我们只需要等待结果了。”他轻轻呼出一口气,关掉设备的电源开关。